設(shè)備基本介紹：

1、設(shè)備主要適合磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰等體系電池正、負(fù)極片涂布工藝。

2、設(shè)備可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行基材厚度：鋁箔：11～30um 銅箔：8～30um；

3、涂布最大寬度：500mm

4、機(jī)械走帶最大速度：6m/min              速度精度為：±0.1m/min，

    涂布速度：＞6m/min （磷酸鐵鋰材料除外）

6、適合漿料黏度：1500~15000 Cps          適合涂布單面干厚度：30~200μm

7、涂布精度：干厚雙面精度誤差：<±0.004mm 干厚單面精度：<±0.002mm

                 正反面涂布對(duì)齊誤差：<±0.5mm 平均長(zhǎng)度誤差：≤±0.5mm

                 涂布輥精度：<±0.001mm

 8、卷芯內(nèi)徑：采用3吋標(biāo)準(zhǔn)氣脹軸

 9、張力控制：低摩擦氣動(dòng)或配重浮輥恒張力系統(tǒng)（不同要求），采用張力閉環(huán)系統(tǒng)自動(dòng)控制

10、糾偏控制精度：≤±0.3mm

11、烘箱溫度控制精度：<±5℃，每段干燥箱溫度獨(dú)立可調(diào)

12、記數(shù)功能：記米或記片

13、涂布方式   ：連續(xù)涂布、間隙涂布